Zklidňující maska s 15% obsahem Centelly Asiaticy, která pomáhá zklidnit pokožku. Obsahuje extrakt ze zeleného čaje, extrakt z pelyňku a 3 druhy kyseliny hyaluronové, které dodávají pleti hlubokou hydrataci.
Detailní popis produktu
Zklidňující maska s 15% obsahem Centelly Asiaticy, která pomáhá zklidnit pokožku. Obsahuje extrakt ze zeleného čaje, extrakt z pelyňku a 3 druhy kyseliny hyaluronové, které dodávají pleti hlubokou hydrataci.
Hloubková hydratace - Obsahuje 3 typy kyseliny hyaluronové s nízkou a středně vysokou molekulovou hmotností, která hydratuje pleť.
Hydratační bariéra - Je esenčního typu, který poskytuje pleti silnou hydratační vrstvu.
Klíčové složky
- 15% výtažek z Centella asiatica - Zklidňuje a uvolňuje pokožku.
- Kyselina hyaluronová - Obsahuje kyselinu hyaluronovou, hydrolyzovanou kyselinu hyaluronovou a hyaluronát sodný, které hloubkově hydratují pokožku.
- Kromě toho obsahuje přírodní rostlinné složky, jako je extrakt z pelyňku, extrakt z bobulí goji, extrakt z ženšenu a extrakt ze zeleného čaje.
Použití:
1. Naneste tonikum vatovými tampony pro zjemnění struktury pleti.
2. Přiložte masku na obličej a nechte ji působit 15-20 minut.
3. Sundejte masku a jemně ji vklepejte konečky prstů, aby se vstřebala.
Doplňkové parametry
| Kategorie: | Plátýnkové masky |
|---|---|
| Typ pleti: | Citlivá pleť, Smíšená pleť, Suchá pleť, Problematická pleť, Mastná pleť, Anti-aging |
| Balení: | 25ml |
| Složení: | Water, Centella Asiatica Extract, Glycereth-26, Butylene Glycol, Niacinamide, 1,2-Hexanediol, Hydroxyacetophenone, Arginine, Acrylates/C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer, Hydroxyethylcellulose, Carrageenan, Polyglyceryl-4 Caprate, Polyglyceryl-6 Caprylate, Adenosine, Ethylhexylglycerin, Disodium EDTA, Helianthus Annuus (Sunflower) Seed Oil, Panthenol, Artemisia Princeps Leaf Extract, Lycium Chinense Fruit Extract, Propandiol, Portulaca Oleracea Extract, Panax Ginseng Root Extract, Camellia Sinensis Leaf Extract, Anthemis Nobilis Flower Oil, Sodium Hyaluronate, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Hyaluronic Acid |
Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.
Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.
